Имплантацијски део волфрам јона

Опис дела за имплантацију волфрам јона

Јонска имплантација је нова технологија модификације површине материјала, која може оптимизовати површинска својства материјала или добити неке нове одличне особине, и игра важну улогу у производњи полупроводника и интегрисаних кола. Будући да волфрам материјал има предности високе густине, високе тачке топљења, стабилних хемијских својстава на високим температурама, мале термичке денатурације, добре топлотне проводљивости и дугог века трајања, постао је први избор за изворе јона и потрошни материјал за имплантате јона у индустрији полупроводника. . Део за имплантацију јона волфрама се обично прави технологијом металургије праха и обично укључује заштитни цилиндар емисионе катоде, емисиону плочу, централну фиксну шипку и филаментну плочу у комори за иницирање лука. Имплантациони део волфрам јона може се широко користити у ваздухопловству, научним експериментима, преради метала, високотемпературним пећима, индустрији рафинације сафира и керамичкој индустрији.

Спецификације дела за имплантацију волфрам јона:

Слике дела имплантације волфрам јона:

Popularne oznake: део за имплантацију волфрам јона, добављачи, произвођачи, фабрика, прилагођени, велепродаја, цена, понуда, на продају